Сухой пленочный фоторезист Ordyl ALPHA 330 разработан для проявления и удаления в умеренно щелочных растворах. Он обеспечивает превосходную работу и устойчивость к выщелачиванию во всех обычно используемых в производстве печатных плат ваннах гальванической металлизации; Alpha 330 обладает высокой устойчивостью к процессам кислого и щелочного травления, очень высокой устойчивостью в гальванических ваннах никелирования и золочения. Его можно экспонировать как с помощью LDI, так и стандартных УФ-ламп. Ordyl ALPHA 330 чрезвычайно эластичный фоторезист, обеспечивает надежное тентирование отверстий даже большого диаметра. ALPHA 330 имеет превосходную адгезию и обеспечивает высокий выход годных в технологии изготовления тонких проводников.