ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ: Очень высокая термостабильность Чувствительность к электронно-лучевой литографии Для получения углублённых профилей фоторезиста Чувствителен к i-линии (365 нм)
Тип: Негативный
Производитель: Merck Performance Materials
Толщина фотослоя: 3,0-5,0 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»