ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ: Самая передовая серия позитивных резистов Мокрое и сухое химическое травление Высокая адгезия ко всем распространенным материалам подложки Очень высокое разрешение Чувствителен к g-, h- и i-линиям (320–440 нм)
Тип: Позитивный
Производитель: Merck Performance Materials
Толщина фотослоя: 1,0-4,0 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»