AZ nLOF2020

ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Толщина фотослоя - 1,5 - 3,0 мкм
Проявители - AZ® 326B, AZ® 726 MIF, AZ® 826 MIF

ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ:
Очень высокая термостабильность
Чувствительность к электронно-лучевой литографии
Для получения углублённых профилей фоторезиста
Чувствителен к i-линии (365 нм)

Тип: Негативный

Производитель: Merck Performance Materials

Толщина фотослоя: 1,5-3,0 мкм