Длина волны экспонирования - i-линия, ГУФ, рентген Области применения - Позитивный фоторезист с высоким разрешением в электронно-лучевой литографии с непосредственным формированием рисунка.
Тип: Позитивный
Производитель: MicroChem Corp
Толщина фотослоя: 0,5-2,0 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»