Области применения - В паре с обычными фоторезистами позволяет осуществлять процесс двухслойной обратной фотолитографии. Это дает возможность получить разрешения, недостижимые для однослойного процесса, что подразумевает получение слоёв толщиной больше 4 мкм при разрешении менее 0,25 мкм
Тип: Позитивный
Производитель: MicroChem Corp
Толщина фотослоя: 0,5-5,0 мкм