AZ 5214E — это позитивный фоторезист с возможностью обратимости изображения, обратной (взрывной) литографии, для получения отрицательного наклона боковых стенок.
Он обладает хорошей адгезией к подложке при влажном травлении. Несмотря на то, что AZ 5214E является позитивным фоторезистом, он способен изменять изображение (ИК), и получать к негативный рисунок. Фактически AZ 5214E используется почти всегда в ИК-режиме.
УФ-спектр от 310 до 440 нм, охватывающий линии: i, h;
Для мокрого и сухого травления;
Проявители: AZ351B, 0,5% раствор NaOH
Толщина пленки - 1,0 - 2,0 мкм Проявители - AZ 351B, AZ 726 MIF, AZ 326 MIF Средства удаления - AZ 100 Remover Области применения - Обратная (взрывная) Отрицательный наклон боковых стенок Высокая температурная стабильность Высокая термостойкость Чувствителен к h- и i-линиям (320–405 нм)
Тип: Позитивный
Производитель: Merck Performance Materials
Толщина фотослоя: 1,0 - 2,0 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»