AZ 5214 E

AZ 5214E — это позитивный фоторезист с возможностью обратимости изображения, обратной (взрывной) литографии, для получения отрицательного наклона боковых стенок.

Он обладает хорошей адгезией к подложке при влажном травлении.
Несмотря на то, что AZ 5214E является позитивным фоторезистом, он способен изменять изображение (ИК), и получать к негативный рисунок.
Фактически AZ 5214E используется почти всегда в ИК-режиме.

Скачать Технический паспорт
Скачать DataSheet

ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА:
  • Толщина фоторезиста 1,0-2,0 мкм;
  • Безопасный растворитель метоксипропилацетат (PGMEA);
  • УФ-спектр от 310 до 440 нм, охватывающий линии: i, h;
  • Для мокрого и сухого травления;
Проявители: AZ351B, 0,5% раствор NaOH

Толщина пленки - 1,0 - 2,0 мкм
Проявители - AZ 351B, AZ 726 MIF, AZ 326 MIF
Средства удаления - AZ 100 Remover
Области применения - Обратная (взрывная)
Отрицательный наклон боковых стенок
Высокая температурная стабильность
Высокая термостойкость
Чувствителен к h- и i-линиям (320–405 нм)

Тип: Позитивный

Производитель: Merck Performance Materials

Толщина фотослоя: 1,0 - 2,0 мкм