Области применения - Для получения изображений вертикальных боковых стенок в очень толстых пленках. Для микроэлектронных применений, где требуется толстое, химически и термически стабильное изображение.
Тип: Негативный
Производитель: MicroChem Corp
Толщина фотослоя: 4,0-120 мкм