ma-P 1225

Толщина - 2,5 мкм
Проявители - ma-D 532/S, mr-D 526/S (на основе TMAH) для серой литографии
ma-D 331 (на основе NaOH) для стандартной бинарной литографии»
Длина волны экспонирования - для i-, g-линий
Области применения - Тонкоплёночные фоторезисты для влажного травления, сухого травления, имплантации и нанесения покрытий

Тип: Позитивный

Производитель: Dow Chemical Company

Толщина фотослоя: 2,5 мкм