Толщина - 2,5 мкм Проявители - ma-D 532/S, mr-D 526/S (на основе TMAH) для серой литографии ma-D 331 (на основе NaOH) для стандартной бинарной литографии» Длина волны экспонирования - для i-, g-линий Области применения - Тонкоплёночные фоторезисты для влажного травления, сухого травления, имплантации и нанесения покрытий
Тип: Позитивный
Производитель: Dow Chemical Company
Толщина фотослоя: 2,5 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»