EPIC 2135-0,26 - жидкий позитивный фоторезист, разработанный для технологий «65 нм» и «90 нм»,для использования в производстве полупроводниковых приборов.
Толщина - 0,26 мкм Проявители - MF-26A Средства удаления - Microposit remover 1165 Длина волны экспонирования - 90, 130, 180 нм Позитив; технологий «65 нм» и «90 нм» Области применения - Разработанный для технологий «65 нм» и «90 нм»,для использования в производстве полупроводниковых приборов
ПРЕИМУЩЕСТВА:
Отличный дефект - контроль;
Отличный край линий;
Низкий фактор ошибок;
Срок годности, стабильность.
Тип: Позитивный
Производитель: Dow Chemical Company
Толщина фотослоя: 0,26 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»