Назад
ММА8,5 EL13
р.
р.
Скачать DataSheet
Толщина -
0,5-2,0 мкм
Проявители -
MIBK
Средства удаления -
Remover PG, Acryl Strip
Длина волны экспонирования -
i-линия, ГУФ, рентген
Области применения -
Позитивный фоторезист с высоким разрешением в электронно-лучевой литографии с непосредственным формированием рисунка.
Тип: Позитивный
Производитель: MicroChem Corp
Толщина фотослоя: 0,5-2,0 мкм
Left
Right