MICROPOSIT S1813G

MICROPOSIT S1813G — это позитивные фоторезисты, разработанные для удовлетворения требований микроэлектронной промышленности для производства передовых устройств с интегральными микросхемами. Фоторезисты разработаны из токсически безопасного растворителя, являющегося альтернативой ацетата эфира, производного этиленгликоля. Варианты с окрашенным фоторезистом рекомендуются для минимизации надрезов и обеспечения контроля ширины линий при обработке материалов с высокой отражающей способностью.

Скачать Технический паспорт

Толщина - 0,7-2,8 мкм
Проявители - MF™-319, MF™-321
Средства удаления - Microposit remover 1165
Длина волны экспонирования - i-, g-линии
Области применения - Общие рекомендации по фоторезистам для изготовления усовершенствованных микросхем


ПРЕИМУЩЕСТВА:
  • Гарантия качества продукции;
  • Однородность характеристик от партии к партии благодаря современным; физическим, химическим и функциональным испытаниям;
  • Фильтрация до размера 0,2 мкм.

СВОЙСТВА ПОКРЫТИЯ:
  • Cellosolve™ без ацетата и ксилола;
  • Покрытие без полосок и бороздок;
  • Превосходная адгезия;
  • Превосходная однородность покрытия;
  • Для однослойной обработки доступны фоторезисты с различными вязкостями.

Тип: Позитивный

Производитель: Dow Chemical Company

Толщина фотослоя: 0,7-2,8 мкм