MICROPOSIT S1813G — это позитивные фоторезисты, разработанные для удовлетворения требований микроэлектронной промышленности для производства передовых устройств с интегральными микросхемами. Фоторезисты разработаны из токсически безопасного растворителя, являющегося альтернативой ацетата эфира, производного этиленгликоля. Варианты с окрашенным фоторезистом рекомендуются для минимизации надрезов и обеспечения контроля ширины линий при обработке материалов с высокой отражающей способностью.
Толщина - 0,7-2,8 мкм Проявители - MF™-319, MF™-321 Средства удаления - Microposit remover 1165 Длина волны экспонирования - i-, g-линии Области применения - Общие рекомендации по фоторезистам для изготовления усовершенствованных микросхем
ПРЕИМУЩЕСТВА:
Гарантия качества продукции;
Однородность характеристик от партии к партии благодаря современным; физическим, химическим и функциональным испытаниям;
Фильтрация до размера 0,2 мкм.
СВОЙСТВА ПОКРЫТИЯ:
Cellosolve™ без ацетата и ксилола;
Покрытие без полосок и бороздок;
Превосходная адгезия;
Превосходная однородность покрытия;
Для однослойной обработки доступны фоторезисты с различными вязкостями.
Тип: Позитивный
Производитель: Dow Chemical Company
Толщина фотослоя: 0,7-2,8 мкм
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности»