AR 300-47

Состав: ТМАН
Нормальность: 0,2
ПАВ: нет
Применение: Для обработки фото- и электронно-лучевых резистов. Содержание ионов металлов < 0,1 ppm.

Производитель: Allresist GmbH

Нормальность: 0,2