Назад
AR 300-47
р.
р.
Отправить запрос
Состав: ТМАН
Нормальность: 0,2
ПАВ: нет
Применение: Для обработки фото- и электронно-лучевых резистов. Содержание ионов металлов < 0,1 ppm.
Производитель: Allresist GmbH
Нормальность: 0,2
Left
Right
Корзина
Заполните форму ниже, чтобы отправить запрос
Отправить запрос
«Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c
политикой конфиденциальности
»