Сухие пленочные фоторезисты
ALPHO
Eternal Materials Co., Ltd (Тайвань) является международной химической компанией по производству сухих пленочных фоторезистов. Химическая промышленность на Тайване за последние 50 лет достигла мирового уровня.
Она была основана в Гаосюне, Тайвань в 1964 году.


ALPHO LIP600F — это сухие пленочные фоторезисты водо-щелочного проявления, которые наиболее подходит для нанесения изображений на печатные платы высокой плотности. Он применяется в установках прямого экспонирования i, h-line. с длиной волны 365- 405 нм.

Благодаря своей высокой разрешающей способности и хорошей адгезией к печатным платам, пленочный фоторезист серии ALPHO LIP600F существенно повышает производительность и качество изготовленных печатных плат.
А за счет низкого уровня образования накипи уменьшается загрязнение проявочного раствора.
ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ:
  • УФ экспонирование
  • Прямое экспонирование
  • Кислотное и щелочное травление
  • Металлизация (Cu, Sn, SnPb)
ОСОБЕННОСТИ ПРОЦЕССА:
  • Это высокочувствительный фоторезист
  • Отличная устойчивость к кислотному и щелочному травлению
  • Отличная адгезия к поверхности
  • Отличное разрешение линий
  • Низкая энергия воздействия
  • Благодаря своей гибкости и прочности, обеспечивает надежную перекрываемость отверстий
  • Благодаря низкому образованию накипи предотвращает загрязнение проявочного раствора

Ассортимент сухих пленочных фоторезистов ALPHO серии LIP: